ANGSTROM

原子层沉积(ALD)系统

经过多年的发展，公司为各种微/纳米应用提供包括Demo实验、ALD技术咨询、到客户定制化ALD设备及工艺，设备跟踪及售后维护等全系列解决方案。公司致力于以技术致胜，综合平衡产品的易用性和可靠性，具有从产品设计、镀膜技术到生产工艺等方面的多项国际专利技术，同时与中美两地几十家顶级科研院所、高校及企业展开卓有成效的合作，产品遍布海内外，产品性能及可靠性被证明可以满足苛刻的研究及生产需求。

截止目前，公司颇与奉献精神的工程师们已经开发出六代ANGSTROM全系列

ALD产品线:

●热型原子层沉积系统(T-ALD);

●等离子增强型原子层沉积系统(PEALD);

●粉末型原子层沉积系统* (Powder ALD);

●热型/粉末复合型原子层沉积系统*;

●ANGSTROM-T工业中试级薄膜原子层沉积系统*;

●ANGSTROM-P大型工业级粉末材料原子层沉积系统;

以上所有型号均可根据客户需求定制化设计制造

*可选配等离子体增强系统